Mask design & Nano_imprint
- Photmask design service
- 고객이 원하는 디자인 정보에 따라 GDSII format으로 Pattern 및 Frame generation work을 제공입니다.
- OPC design service
- 고객이 현재 사용중인 lithography 의 한계를 극복 하는 방법으로서 소프트웨어를 이용하여 mask design을 각각의 process의 조건에 맞게 mask design을 model/rule base로 수정하여 mask design 서비스는 business model입니다.
ex: 현재 0.35 capability 0.3 or 0.25 capability 로 확장을 하고자 할때
- Nano_imprint
- Substrate 위에 미세 Pattern을 형성하는 기술로 대면적 구현 가능, Substrate 와 동등한 특성을 가진 수지로 Pattern 형성
